“不错，你们在研发上一点都没落下，现在的进度让我都感觉有点意外...

　　不过在光刻机的技术积累上已经足够多了，接下来可以分出一部分精力尝试新材料和应用场景方面的思考...”

　　周丰年来到半导体中心后调研参观后，对这里的技术发展有了新的了解。

　　光刻机发展的最快，现在已经可以实现三十纳米，不仅领先了国外一个时代，而且还在向下一代深化研究。

　　国内的科研技术一点都不落后，要是同一个起步...